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DA PUBBLICARE IMMEDIATAMENTE N. 3750
Sistema laser con lunghezze d'onda ultraviolette profonde con impulsi inferiori al nanosecondo
TOKYO, 26 novembre 2024 - Mitsubishi Electric Corporation (TOKYO: 6503) ha annunciato oggi lo sviluppo, in collaborazione con l'Institute of Physical and Chemical Research (RIKEN) e l'Institute for Molecular Science (IMS) of National Institutes of Natural Sciences, di un sistema laser con lunghezze d'onda ultraviolette profonde (DUV) con impulsi brevi* (inferiori al nanosecondo) ad alta energia che raggiunge un'energia di uscita di 235 millijoule, la classe di energia a impulsi più elevata al mondo**. Il sistema laser compatto e portatile è stato installato in un'area dedicata dello stabilimento del RIKEN presso IMS in Giappone, dove verrà utilizzato per la ricerca e lo sviluppo di acceleratori.
Gli impulsi inferiori al nanosecondo sono stati ottenuti utilizzando un laser a microchip in grado di generare impulsi estremamente brevi, mentre l'energia in uscita elevata è stata realizzata ottimizzando il diametro del fascio. Inoltre, la tecnologia di raffreddamento Distributed Face Cooling, sviluppata in collaborazione con RIKEN e IMS, viene implementata in un chip ad alta dissipazione del calore, consentendo al laser di classe joule di funzionare a temperatura ambiente, a differenza dei laser convenzionali ad alta potenza che richiedono un raffreddamento a bassa temperatura.
In prospettiva futura, Mitsubishi Electric continuerà a far progredire la tecnologia di accelerazione laser e la miniaturizzazione dei relativi sistemi, contribuendo così all'innovazione tecnologica in numerosi campi.
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