Comunicados de prensa
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PARA SU PUBLICACIÓN INMEDIATA N.º 3750
Sistema láser ultravioleta profundo de pulso corto (inferior a un nanosegundo)
TOKIO, 26 de noviembre de 2024 - Mitsubishi Electric Corporation (TOKIO: 6503) ha anunciado hoy que, en colaboración con el RIKEN (Institute of Physical and Chemical Research, Instituto de Investigación de Física y Química) y el IMS (Institute for Molecular Science, Instituto de Ciencia Molecular), perteneciente a la red de Institutos Nacionales de Ciencias Naturales, ha desarrollado un sistema láser de longitud de onda ultravioleta profunda (DUV) de pulso corto* (inferior a un nanosegundo) y alta energía capaz de entregar una energía de 235 milijulios, la energía de pulso más elevada** del mundo. El sistema láser compacto y portátil se ha instalado en un área específica de las instalaciones de RIKEN en el IMS en Japón, donde se utilizará para la investigación y el desarrollo de aceleradores.
Los pulsos cortos (de menos de un nanosegundo) se lograron mediante el uso de un láser de microchip capaz de generar pulsos extremadamente cortos, y la salida de alta energía se consiguió mediante la optimización del diámetro del haz. Además, gracias a la tecnología de refrigeración Distributed Face Cooling desarrollada de manera conjunta con el RIKEN y el IMS e implementada en un chip con una alta capacidad de disipación térmica, este láser de alta energía es capaz de funcionar a temperatura ambiente, algo que no ocurre con los láseres convencionales de alta potencia, que deben funcionar en un entorno refrigerado a baja temperatura.
Mitsubishi Electric tiene previsto seguir trabajando en el futuro en la tecnología de aceleración láser y en la miniaturización de los sistemas láser, lo cual contribuirá a la innovación tecnológica en una amplia variedad de campos.
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